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随着功率器件(LED、LD、IGBT、CPV等)的不断发展,散热已成为影响器件性能和可靠性的关键技术。陶瓷基板因其优异的导热性、介电性能和机械强度而受到青睐。根据工艺不同,平板陶瓷基板主要分为薄膜陶瓷基板(TFC)、厚印刷陶瓷基板(TPC)、陶瓷覆铜基板(DBC/AMB/DPC)等。
1.薄膜陶瓷基板
薄膜陶瓷基板采用磁控溅射、真空蒸镀、电化学沉积等薄膜工艺在陶瓷基板表面形成金属层,然后通过掩模和刻蚀工艺形成特定的金属图案。
特点:
常见的薄膜陶瓷基板:氧化铝、氮化铝、铍。主要应用:大功率、小尺寸、散热要求高、布线精度要求高的器件封装。例如用于激光器、激光雷达、LED等大功率芯片封装。
2.厚印刷陶瓷基板
厚印刷陶瓷基板是采用丝网印刷工艺印刷金属布线层,然后脱脂烧结(一般850~900℃)形成电路。其工艺流程如下图所示。根据金属浆料的粘度和丝网的尺寸,制备的金属线路层的厚度一般为10um~20um(提高金属层的厚度可以通过多次丝网印刷来实现)。
TPC基板制备工艺流程
特征:
因此,厚印刷陶瓷仅用于线路精度要求不高的电子器件封装,如汽车电子等。
三、薄膜、陶瓷基板和厚印刷陶瓷基板的区别
厚印刷基板和薄膜陶瓷基板有两个区别:
1)膜厚的区别
膜厚一般在10um以上,薄膜的膜厚在10um以下,大部分在1um以下;
2)制造工艺的区别
一般采用丝网印刷工艺,薄膜陶瓷基板采用真空蒸镀、磁控溅射等工艺方法。
本文转载自cmpe360.com。
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