我们的氮化铝具有良好的抗氧化性、抗化学侵蚀性、抗热冲击性、机械强度、低介电常数、与硅晶体相似的热膨胀系数和高导热性。
产品详情：
半导体用氮化铝陶瓷静电吸盘
产品描述：
在现代半导体制造工艺中，晶圆是分多个步骤进行加工的，晶圆需要在数百台工艺设备之间来回转移。因此需要一种装置来夹持晶圆。静电吸盘通过静电吸附来夹持晶圆，吸附力均匀稳定，晶圆不会翘曲变形，可以保证晶圆的加工精度和清洁度。
我们的服务：
我们的氮化铝基板有各种尺寸和厚度可供选择。
规格：
| 尺寸（长x宽） | φ110*110mm |
| 厚度 | 5毫米等 |
| 导热系数 | 170W/米·K |
| 介电常数 | 8-9（兆赫） |
| 堆积密度 | 3.3克/立方厘米 |
| 表面粗糙度 | 拉 < 双面0.6μm |
公司优势：
华清成立于2004年，投资总额8000万元人民币，注册资本4000万元人民币。华庆的AlN & Al2O3陶瓷产品与业内其他工厂相比，具有高导热率、低介电常数、良好的损耗因数和优异的机械性能。 AlN & Al2O3陶瓷广泛应用于HBLED、光通信、IGBT、功率器件、TEC等高端应用。
厂房及设备：
包装及交付：
通过 UPS、DHL、Fedex 等运送。
我们的氮化铝具有良好的抗氧化性、抗化学侵蚀性、抗热冲击性、机械强度、低介电常数、与硅晶体相似的热膨胀系数和高导热性。产品详情：材质：氮化铝。作用：绝缘、散热。颜色：灰色。类型：陶瓷。可定制：可以，请提供具体产品的图纸。
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