我们的氮化铝具有良好的抗氧化性、抗化学侵蚀性、抗热冲击性、机械强度、低介电常数、与硅晶体相似的热膨胀系数和高导热性。
产品详情:
半导体用氮化铝陶瓷静电吸盘
产品描述:
在现代半导体制造工艺中,晶圆是分多个步骤进行加工的,晶圆需要在数百台工艺设备之间来回转移。因此需要一种装置来夹持晶圆。静电吸盘通过静电吸附来夹持晶圆,吸附力均匀稳定,晶圆不会翘曲变形,可以保证晶圆的加工精度和清洁度。
我们的服务:
我们的氮化铝基板有各种尺寸和厚度可供选择。
规格:
尺寸(长x宽) | φ110*110mm |
厚度 | 5毫米等 |
导热系数 | 170W/米·K |
介电常数 | 8-9(兆赫) |
堆积密度 | 3.3克/立方厘米 |
表面粗糙度 | 拉 < 双面0.6μm |
公司优势:
华清成立于2004年,投资总额8000万元人民币,注册资本4000万元人民币。华清的AlN & Al2O3陶瓷产品与业内其他工厂相比,具有高导热率、低介电常数、良好的损耗因数和优异的机械性能。 AlN & Al2O3陶瓷广泛应用于HBLED、光通信、IGBT、功率器件、TEC等高端应用。
厂房及设备:
包装及交付:
通过 UPS、DHL、Fedex 等运送。
为什么您需要我们的服务,您知道您将获得高素质的专业人士,他们拥有专业知识和经验,可以确保您的项目正确完成并发挥作用。
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